[发明专利]一种获得高品质薄膜样品X射线吸收谱的方法有效
| 申请号： | 201210591180.6 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103076352A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 张静;陈栋梁;安鹏飞;宋冬燕;谢亚宁;胡天斗 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王朋飞;张庆敏 |
| 地址： | 100049 北京市石*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种获取高品质薄膜样品X射线吸收谱的方法，在薄膜样品的测量过程中，采用干式胶片曝光其单晶衬底所致衍射斑点后，通过铅皮遮蔽曝光点，阻止衬底所致的衍射信号进入探测器，从而得到高品质薄膜样品X射线吸收谱。这种干式胶片由碳，氮，氧及微量的锂元素构成，有效原子序数在6-8之间，胶片厚度约为100-200微米，不会对硬X射线吸收谱测量带来严重背底，特别是还可以和探测器中的滤光片集成，同时滤除由于入射光引起的散射效应和薄膜样品基底导致的衍射效应，从而，提供一种简便有效的途径，获得薄膜样品的高品质X射线吸收光谱。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 获得 品质 薄膜 样品 射线 吸收 方法 | ||
【主权项】：
一种获取高品质薄膜样品X射线吸收谱的方法，其特征在于：，在薄膜样品的测量过程中，采用干式胶片曝光薄膜样品衬底所致衍射斑点后，通过铅皮遮蔽衍射斑，阻止衬底所致的衍射信号进入探测器，从而得到高品质薄膜样品X射线吸收谱。
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