[发明专利]用于电磁接触器的辅助接触机构有效

专利信息
申请号: 201210558671.0 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103177886A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 崔官浩 申请(专利权)人: LS产电株式会社
主分类号: H01H3/20 分类号: H01H3/20
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;孙丽梅
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种用于电磁接触器的辅助接触机构,其包括:触头支撑构件,其具有在中央沿垂直方向形成的轴向凹部;固定触头;活动触头;永久磁体,其位置固定至触头支撑构件并施加磁引力以约束活动触头,从而保持活动触头与固定触头接触的闭路位置;以及滑动式活动支撑件,其具有形成在与处于闭路位置时的所述活动触头以预设的距离分离开的位置处的推压突出部,并且当所述滑动式活动支撑件受到来自所述主触头滑动支撑构件施加的向下的推压力而向下运动时,其在经过预设的延迟时间之后推动所述活动触头以将所述活动触头从约束状态释放。
搜索关键词: 用于 电磁 接触器 辅助 接触 机构
【主权项】:
一种用于电磁接触器的辅助接触机构,所述电磁接触器具有支撑主触头并且能够沿垂直方向可滑动地运动的主触头滑动支撑构件,其特征在于,所述辅助接触机构包括:由电绝缘材料制成的触头支撑构件,其支撑触头并具有在触头支撑构件的中央沿垂直方向形成的且带有阻塞下部的轴向凹部;固定触头,其由所述触头支撑构件位置固定地支撑;活动触头,其具有所述活动触头与固定触头接触的闭路位置,并且其能够运动至所述活动触头与固定触头分离的开路位置;永久磁体,其位置固定至触头支撑构件并施加磁引力以约束活动触头,从而保持所述活动触头与固定触头接触的闭路位置;以及滑动式活动支撑件,其联接到活动触头上从而能够在轴向凹部内与活动触头一起沿垂直方向运动,当受到由主触头滑动支撑构件向下作用的推压力时,所述滑动式活动支撑件能够与活动触头一起可滑动地运动以使得活动触头运动至开路位置,所述滑动式活动支撑件具有形成在与处于闭路位置时的所述活动触头以预设的距离分离开的位置处的推压突出部,并且当所述滑动式活动支撑件受到由所述主触头滑动支撑构件施加的向下的推压力而向下运动时,其在经过预设的延迟时间之后推动所述活动触头以将所述活动触头从约束状态释放。
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