[发明专利]一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210550505.6 申请日: 2012-12-17
公开(公告)号: CN103033862A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 刘应军;王任凡;阳红涛;胡忞远 申请(专利权)人: 武汉电信器件有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/11;G02B5/18;G03F7/20
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 张若华
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提出一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置及其制备方法,该反射镜装置中反射镜的反射膜表面具有增透膜,该增透膜由多个相间的条形结构构成,每个条形结构的宽度与相邻条形结构的间距之间的比例满足1:5~5:1。本发明通过设置有增透膜,进而可以采用全息曝光方法,通过在反射镜上部分区域引入λ/2光程差改变干涉条纹的明暗线,进而获得相移光栅。本发明既解决了DFB激光器光谱双模问题,又解决了采用E-beam制作相移光栅成本高,速度慢的问题。
搜索关键词: 一种 用于 制备 dfb 激光器 相移 光栅 反射 装置 及其 方法
【主权项】:
一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置,其特征在于,包括反射镜,该反射镜的反射膜表面具有增透膜,所述的增透膜由多个相间的条形结构构成。
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