[发明专利]一种金属化学机械抛光浆料及其应用在审

专利信息
申请号: 201210528946.6 申请日: 2012-12-10
公开(公告)号: CN103866326A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 荆建芬;张建;蔡鑫元 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: C23F3/04 分类号: C23F3/04
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
地址: 201203 上海市浦东新区张*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种用于铜的化学机械抛光浆料及其应用,该浆料包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂,腐蚀抑制剂,和至少一种磷酸酯类表面活性剂。使用本发明的浆料的可以保持较高的铜的去除速率,改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口,抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。
搜索关键词: 一种 金属 化学 机械抛光 浆料 及其 应用
【主权项】:
一种金属化学机械抛光浆料,包括研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂,其特征在于,还至少含有一种磷酸酯类表面活性剂。
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