[发明专利]一种金属化学机械抛光浆料及其应用在审
申请号: | 201210528946.6 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN103866326A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C23F3/04 | 分类号: | C23F3/04 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种用于铜的化学机械抛光浆料及其应用,该浆料包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂,腐蚀抑制剂,和至少一种磷酸酯类表面活性剂。使用本发明的浆料的可以保持较高的铜的去除速率,改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口,抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 化学 机械抛光 浆料 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种金属化学机械抛光浆料,包括研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂,其特征在于,还至少含有一种磷酸酯类表面活性剂。
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