[发明专利]一种使用激光加工介质基片的方法有效
申请号: | 201210519293.5 | 申请日: | 2012-12-06 |
公开(公告)号: | CN103028848A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 曹乾涛;马子腾 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36;B23K26/18 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 266000 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提出了一种使用激光加工介质基片的方法,解决了现有的介质基片激光加工技术面临保护涂层去除工艺复杂、成本较高、去除溶剂不环保,以及对操作人员身体健康造成危害的问题。一种使用激光加工介质基片的方法,包括以下步骤:步骤(a),在介质基片上形成聚乙烯醇/聚醋酸乙烯酯体系水溶胶保护层;步骤(b),激光加工所述介质基片;步骤(c),激光加工完成后,使用溶剂去除所述介质基片上的聚乙烯醇/聚醋酸乙烯酯体系水溶胶保护层。本发明的有益效果是:容易在介质基片表面形成一保护涂层,保护涂层能用绿色环保的溶剂快速溶解去除。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 激光 加工 介质 方法 | ||
【主权项】:
一种使用激光加工介质基片的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(a),在介质基片上形成聚乙烯醇/聚醋酸乙烯酯体系水溶胶保护层;步骤(b),激光加工所述介质基片;步骤(c),激光加工完成后,使用溶剂去除所述介质基片上的聚乙烯醇/聚醋酸乙烯酯体系水溶胶保护层。
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