[发明专利]抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂有效
| 申请号： | 201210503750.1 | 申请日： | 2012-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN103120623A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 高鹰;张秋霞;刘萍;宁科功 | 申请（专利权）人： | 云南白药集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/24 | 分类号： | A61K8/24;A61Q11/00;A61K8/19 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张媛德;范严生 |
| 地址： | 650500 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明属于口腔清洁护理用品领域，特别适用于减轻人体牙本质敏感，本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品，主要为：牙膏、牙粉、口腔用贴膜剂、口腔用软膏剂、口腔用糊剂等，其所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品中含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子，由于微米级羟基磷灰石在牙本质的牙小管空隙中形成稳定的结晶状羟基磷灰石沉积层，从而发生封闭牙小管的作用，产生迅速且长期地降低牙本质过敏现象；复配的钾离子，可以阻止牙髓神经纤维的去极化作用，使牙神经麻痹，降低牙神经的敏感作用。上述双重作用途径同时发挥效果，比两种单一物质中任何一种单独使用都带来更好的抗牙本质敏感作用，本发明使用方便，经临床实验证明效果非常好。 | ||
| 搜索关键词： | 牙本质 敏感 口腔 清洁 护理 制剂 | ||
【主权项】：
抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于，由重量比为3%‑25%的微米级羟基磷灰石材料、1%‑5%钾离子和余量的辅料组成。
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