[发明专利]抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂有效
| 申请号： | 201210503750.1 | 申请日： | 2012-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN103120623A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 高鹰;张秋霞;刘萍;宁科功 | 申请（专利权）人： | 云南白药集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/24 | 分类号： | A61K8/24;A61Q11/00;A61K8/19 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张媛德;范严生 |
| 地址： | 650500 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 牙本质 敏感 口腔 清洁 护理 制剂 | ||
1.抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于，由重量比为3%-25%的微米级羟基磷灰石材料、1%-5%钾离子和余量的辅料组成。
2.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于微米级羟基磷灰石的直径范围是0.5um-5um。
3.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的钾离子为含有钾离子的盐类。
4.根据权利要求3所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的含有钾离子的盐类为硝酸钾。
5.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙膏。
6.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙粉。
7.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔贴膜剂。
8.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的软膏剂。
9.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔用糊剂。
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