[发明专利]抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂有效
申请号: | 201210503750.1 | 申请日: | 2012-12-01 |
公开(公告)号: | CN103120623A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 高鹰;张秋霞;刘萍;宁科功 | 申请(专利权)人: | 云南白药集团股份有限公司 |
主分类号: | A61K8/24 | 分类号: | A61K8/24;A61Q11/00;A61K8/19 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 张媛德;范严生 |
地址: | 650500 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 牙本质 敏感 口腔 清洁 护理 制剂 | ||
技术领域
本发明属于口腔清洁护理用品领域,特别适用于减轻人体牙本质敏感的制剂。
技术背景
牙本质敏感为口腔常见病和多发病,在全球35岁以上人群中,80%以上的人存在牙本质过敏现象,牙本质过敏的主要机理是由于牙釉质的损伤及牙龈萎缩等原因导致牙本质外露,外露的牙本质在受到外界冷、热、酸、甜、压力等的刺激下,牙小管中生物液压发生变化,这种压力的变化传递到与牙小管相连的牙神经,使人们感到疼痛、酸胀等不同程度的牙齿不适反应。
发明内容
本发明的目的旨在于克服现有技术的缺陷,提供一种能够减轻乃至解决牙本质敏感现象,防止由于外界刺激给人们带来的不适和痛苦而提供便捷有效的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂,它是由重量比为3%-25%的微米级羟基磷灰石材料、1%-5%钾离子和余量的辅料组成。
所述的微米级羟基磷灰石的直径范围是0.5um-5um。
所述的钾离子为含有钾离子的盐类。
所述的含有钾离子的盐类为硝酸钾。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙膏。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙粉。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子口腔贴膜剂。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子软膏剂。
本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔用糊剂。
本发明中由于微米级羟基磷灰石在牙本质的牙小管空隙中形成稳定的结晶状羟基磷灰石沉积层,从而发生封闭牙小管的作用,产生迅速且长期地降低牙本质过敏现象;复配的钾离子,可以阻止牙髓神经纤维的去极化作用,使牙神经麻痹,降低牙神经的敏感作用。上述双重作用途径同时发挥效果,比两种单一物质中任何一种单独使用都带来更好的抗牙本质敏感作用。本发明使用方便,经临床实验证明效果非常好。
下面通过试验对本发明所述的产品效果进行进一步的阐述:
一、 体外离体牙的牙小孔封闭试验:
试验目的:通过模拟刷牙的方式,利用本发明技术制成的牙膏对已暴露的牙小孔的离体人牙进行刷牙试验,观察其对牙小孔的封闭效果,从而评价该技术的可行性和科学性。
1、试验材料:
1.1 2号牙膏由硝酸钾及其他牙膏辅料(无微米级羟基磷灰石)制成,3号牙膏由微米级羟基磷灰石及其他牙膏辅料(无硝酸钾)制成,4号牙膏由微米级羟基磷灰石和硝酸钾及其他牙膏辅料制成。
1.2 扫描电镜(扫描电镜为日立公司,型号:S3400N)、普通尖毛牙刷。
2、试验方法:
2.1 将收集到的离体牙于75%酒精中浸泡1小时进行消毒处理,再进行高温高压灭菌处理后备用。
2.2 离体牙牙小孔暴露处理
将经过消毒、灭菌后的牙齿用树脂材料进行包埋,然后进行打磨、抛光、冲洗,干燥,于扫描电镜下检视牙小孔是否暴露,直至清晰暴露后,冲洗、干燥后进行喷金处理,进行正式电镜扫描,扫描结果见图1,图3,图5。
2.3 模拟刷牙
首先将处理的牙齿分为三组,第1组用单纯含硝酸钾2号牙膏,第2组用单纯含羟基磷灰石3号牙膏,第3组用本发明技术制成的羟基磷灰石加硝酸钾4号牙膏,对干燥喷金的离体牙进行模拟刷牙,每次刷试3分钟,间隔2小时,再进行第二次刷试,共计刷试12次,每次刷完后用水缓缓将多余的试验样品洗净,自然放置,待进行下次刷试,至12次刷试完成后,自然放置干燥备用。
2.4 将2.3中自然干燥的离体牙进行喷金处理,然后进行正式电镜扫描,扫描结果见图2,图4,图6。
3、实验结果
3.1 图1为刷牙前电镜扫描图,图2为用2号牙膏-单纯含硝酸钾的牙膏刷试后电镜扫描图,对比图1和图2;
3.2 图3为刷牙前电镜扫描图,图4为3号牙膏-单纯含羟基磷灰石的牙膏刷试后电镜扫描图,对比图 3和图4;
3.3 图5为刷牙前电镜扫描图,图6为4号牙膏-羟基磷灰石+硝酸钾牙膏刷试后电镜扫描图,对比图5和图6;
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