[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210496781.9 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103849318A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于硅的抛光液，该抛光液含有水、研磨颗粒、长链表面活性剂，该长链表面活性剂一端为氨基，另一端为醚。通过采用本发明中的表面活性剂，可以在显著降低抛光液在硅片表面的接触角，改善液体在硅片表面的铺展，降低产品缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、其中，所述抛光液还含有长链表面活性剂，该长链表面活性剂的一端为氨基，另一端为醚。
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