[发明专利]一种酸性化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210458316.6 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103805068A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 高嫄;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;G11B7/26 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种酸性化学机械抛光液，包括研磨颗粒，氧化剂，水，所述抛光液还含有金属离子磨削促进剂以及溶解在抛光液中的螯合物，其中，所述螯合物具有含胺化合物作为配位体。该抛光液具有加工性能（如储存稳定性）或者对皮肤刺激性较少，改进了对存储器硬盘所用基片的精抛光。并且能够在对存储器硬盘基片进行经抛光的过程中防止形成微凸起、微凹坑和其它表面缺陷，抛光速率不低于常规抛光组合物，同时能得到优良的抛光加工表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 酸性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，氧化剂，水，其特征在于，所述抛光液还含有金属离子磨削促进剂以及溶解在抛光液中的螯合物，其中，所述螯合物具有含胺化合物作为配位体。
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