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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种聚合物载体材料及其制剂和应用-CN202110566726.1有效
发明人：刘安昌;赵丽霞;高嫄;王锐;翟光喜 -专利权人：山东大学齐鲁医院
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C08B37/08 文献下载
摘要：本申请提供一种聚合物载体材料及其制剂和应用。本发明所述聚合物载体材料，其以3,3’‑二硫代二丙酸作为连接臂将姜黄素连接到壳寡糖的骨架上，所述聚合物载体材料的结构如式I所示：其中，n≥2。在本发明的设计中，姜黄素作为载体材料的一部分，形成疏水腔用于亲脂性化疗药物多烯紫杉醇的负载，同时由其参与构成的聚合物结构具有抗肿瘤作用，可以增强多烯紫杉醇的化疗敏感性。亲水端壳寡糖一方面起到长循环的作用，另一方面其可增加药物穿过血脑屏障的能力。二硫键作为还原敏感的连接臂的引入使得聚合物纳米粒能够在肿瘤细胞内高还原状态下发生断裂，实现化疗药物在肿瘤部位的高效释放。
一种聚合物载体材料及其制剂应用

[发明专利]一种麝香草酚氨基醇及其制备方法与应用-CN201910569957.0有效
发明人：蔡友良;高嫄;强浩 -专利权人：南京神奇科技开发有限公司
申请日： 2019-06-27 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C07D295/096 文献下载
摘要：本发明公开了一类麝香草酚氨基醇及其制备方法与应用，所述的制备方法是以麝香草酚为起始原料在碱性条件下与环氧氯丙烷反应，得到环氧化物中间体；中间体再与相应仲胺反应得产物。本发明的麝香草酚氨基醇经药理实验证明具有良好抗肿瘤活性，可用于制备抗肿瘤药物。
一种麝香氨基及其制备方法应用

[发明专利]一种氨基甲酸黄柏酮肟酯及其制备方法与应用-CN201910568825.6有效
发明人：蔡友良;高嫄;强浩 -专利权人：南京神奇科技开发有限公司
申请日： 2019-06-27 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C07J73/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种氨基甲酸黄柏酮肟酯及其制备方法与应用，所述氨基甲酸黄柏酮肟酯的制备方法是黄柏酮肟在缚酸剂或相转移催化剂存在下与异氰酸酯反应。反应完毕，经过滤，洗涤，干燥得氨基甲酸黄柏酮肟酯。所述甲酸黄柏酮肟酯类新化合物可用于制备杀虫、杀菌剂。
一种氨基甲酸黄柏酮肟酯及其制备方法应用

[外观设计]龈下牙种植体探测仪-CN202130821925.3有效
发明人：高建春;高嫄 -专利权人：天津市精工东洋国际贸易有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： 24-01 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：龈下牙种植体探测仪。2.本外观设计产品的用途：在牙种植体二期手术中，用于探测埋藏于牙龈下的牙种植体位置。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
龈下牙种植探测仪

[实用新型]一种透析导管固定装置-CN202021048666.1有效
发明人：陆艳;罗刚;石敏;杨婷婷;张翠翠;冷春利;黄映;高嫄;赵培;向海艳 -专利权人：贵州省习水县人民医院
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： A61M1/16 文献下载
摘要：本方案公开了医疗设备领域的一种透析导管固定装置，包括粘贴片和固定件，固定件包括双向阀、内管和套接在内管外的外管，内管的内壁固定连接有内气囊，内管和外管之间设有外气囊，外气囊与内管的外壁固定连接，内气囊和外气囊通过双向阀连通；粘贴片与外管固定连接。本方案中的固定装置可避免透析导管在使用时被碰掉，同时防止透析导管接头被外界污染。
一种透析导管固定装置

[发明专利]一种氮唑类化合物在提高化学机械抛光液稳定性中的应用-CN201410842141.8有效
发明人：陈宝明;高嫄;荆建芬;蔡鑫元;张健;宋凯;王雨春 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2014-12-29 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明旨在提供一种氨基硅烷改性的研磨颗粒制备的抛光液稳定性差的解决方案，通过加入氮唑类化合物可显著提高这种体系的pH、纳米颗粒粒径和抛光速率在储藏期的稳定性。其可在提高这种二氧化硅研磨颗粒抛光液对二氧化硅介电材料的去除速率的同时，提高其pH、纳米颗粒粒径和抛光速率在储藏期的稳定性。
一种氮唑类化合物提高化学机械抛光稳定性中的应用

[发明专利]一种咖啡酸酰腙衍生物及其制备方法与应用-CN201910568808.2在审
发明人：蔡友良;高嫄;强浩 -专利权人：南京神奇科技开发有限公司
申请日： 2019-06-27 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： C07C249/16 文献下载
摘要：本发明公开了咖啡酸酰腙衍生物及制备方法与应用，本发明咖啡酸酰腙衍生物其具有式A化学结构式，由咖啡酸酯为起始原料与水合肼反应，得到酰肼；有机溶剂中，所述酰肼再与芳香醛反应得产物。本发明的咖啡酸酰腙衍生物经药理实验证明具有良好抗肿瘤活性，可用于制备抗肿瘤药物。
酰腙衍生物咖啡酸酰肼制备制备抗肿瘤药物药理实验证明反应得产物化学结构式抗肿瘤活性咖啡酸酯起始原料有机溶剂芳香醛水合肼可用应用

[发明专利]一种化学机械抛光液以及抛光方法-CN201310726698.0有效
发明人：高嫄;荆建芬 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学机械抛光液在提高二氧化硅抛光速率中的应用，该化学机械抛光液包含研磨颗粒，含硅的有机化合物，大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子，以及酸，且所述含硅的有机化合物为以下通式，其中，R为不能水解的取代基，D是连接在R上的有机官能团，其可与有机物质反应而结合，A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基，C是可水解基团或羟基，或不可水解的烷基取代基。
一种化学机械抛光以及抛光方法

[发明专利]一种化学机械抛光液以及抛光方法-CN201310727945.9有效
发明人：高嫄;荆建芬;陈宝明 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学机械抛光液，含有研磨颗粒，含硅的有机化合物，大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子，含氮化合物及其盐，化学机械抛光液的pH值在1‑7之间，且含硅的有机化合物的通式为：其中，R为不能水解的取代基，D是连接在R上的有机官能团，其可与有机物质反应而结合，B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基，C是可水解基团或羟基，或者不可水解的烷基取代基。
一种化学机械抛光以及抛光方法

[发明专利]一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液-CN201610633749.9在审
发明人：高嫄;荆建芬;潘依君;蔡鑫元 -专利权人：安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，包含研磨颗粒、唑类化合物、有机/无机酸、氧化剂和水，还包含含硅有机化合物及聚酰胺胺超支化聚合物PAMAM。本发明提供的抛光液实现了在酸性抛光环境下，阻挡层抛光过程中，可以满足对各种材料的抛光速率和选择比要求，对半导体器件表面的缺陷有很强的矫正能力，能够快速实现平坦化，提高工作效率，降低生产成本。
一种用于阻挡平坦化学机械抛光

[发明专利]一种化学机械抛光液-CN201610633767.7在审
发明人：高嫄;荆建芬;潘依君;蔡鑫元 -专利权人：安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开一种化学机械抛光液，其中含有研磨颗粒、含硅的有机化合物、电解质离子及络合剂。本发明利用含硅的有机化合物与聚酰胺胺超支化聚合物PAMAM及其端基功能化衍生物之间存在的显著的协同作用，可大幅提高二氧化硅的抛光速度。同时，在高电解质离子强度下，能够稳定研磨颗粒，提高抛光液pH的稳定性。另外，本发明中抛光液可制备为高度浓缩液，可以大幅降低产品原材料、包装、运输、仓储、管理、人力等成本，具备优异的应用前景。
一种化学机械抛光

[发明专利]一种碱性阻挡层化学机械抛光液-CN201310354652.0有效
发明人：王晨;周文婷;何华锋;高嫄 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2013-08-14 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种包含有硅烷偶联剂的碱性阻挡层化学机械抛光液，其可以实现碱性阻挡层化学机械抛光液的高倍浓缩和胶体的稳定性。
一种碱性阻挡化学机械抛光

[发明专利]一种化学机械抛光液以及应用-CN201310354927.0有效
发明人：何华锋;王晨;周文婷;高嫄 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2013-08-14 - 公布日： 2017-10-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学机械抛光液以及应用，该抛光液对硅、铜及氧化硅同时具有非常高的抛光速度。通过硅烷偶联剂、氧化剂、有机胺、EDTA,实现了在碱性抛光环境下、化学机械抛光液的高研磨速率和解决抛光液分散稳定性的问题。
一种化学机械抛光以及应用

[发明专利]含硅有机化合物在延长化学机械抛光液中研磨颗粒稳定性中的应用-CN201310354653.5有效
发明人：高嫄;王晨;何华锋;周文婷 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2013-08-14 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：含硅有机化合物在延长化学机械抛光液中研磨颗粒稳定性中的应用。本发明通过硅烷偶联剂实现了在高离子强度下的化学机械抛光液的分散稳定性。加入了该硅烷偶联剂的抛光液中的研磨颗粒可以长时间的保持分散稳定。
有机化合物延长化学机械抛光研磨颗粒稳定性中的应用

[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用-CN201410856727.X在审
发明人：高嫄;荆建芬;陈宝明;王雨春;蔡鑫元;邱腾飞 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2014-12-29 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明的化学机械抛光液具有较高的TEOS和低k材料(BD)的去除速率，且Cu的去除速率可通过升高或降低氧化剂的含量来调节，满足了阻挡层抛光液过程中绝缘层材料和金属抛光速率选择比的要求，本发明的化学机械抛光液可以防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀问题，并保证抛光后，晶圆的表面缺陷和污染物少。该发明也可用于TSV阻挡层的抛光。
一种化学机械抛光及其应用

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