[发明专利]一种多西他赛合成中的基团保护方法无效
申请号: | 201210454530.4 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN102964316A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 易镇海;李方芝 | 申请(专利权)人: | 湖北一半天制药有限公司 |
主分类号: | C07D305/14 | 分类号: | C07D305/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 433300 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及制药工程领域,公开了一种多西他赛合成中基团保护方法。该方法以10-脱乙酰基巴卡亭(Ⅲ)为原料,用三苯基氯甲烷对7位和10位的羟基进行保护,然后与多西他赛侧链1-叔丁氧羰基-(3R,4S)-乙氧基乙基-O-4-苯基-氮杂环丁烷-2-酮进行缩合反应,最后脱去保护基团,得到目标产物-多西他赛。该方法对7位和10位的羟基保护选择性强,合成收率高,适用于化学原料药的工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 合成 中的 基团 保护 方法 | ||
【主权项】:
一种多西他赛合成中基团保护方法:第一步,对10‑脱乙酰基巴卡亭(Ⅲ)中的7位和10位的羟基进行保护,所使用的保护试剂为三苯基氯甲烷;第二步,多西他赛侧链1‑叔丁氧羰基‑(3R,4S)‑乙氧基乙基‑O‑4‑苯基‑氮杂环丁烷‑2‑酮与7,10位羟基保护的10‑脱乙酰基巴卡亭(Ⅲ)进行缩合反应,得到7,10和2’保护的多西他赛;第三步,脱去保护基团,得到目标产物‑多西他赛。
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