[发明专利]一种颗粒增强铜-TiC高强度高导电点焊电极的制备方法无效
申请号: | 201210361562.X | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN102909375A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 刘勇;田保红;杨志强;孙永伟;杨雪瑞;龙永强;张毅;贾淑果;任凤章;宋克兴 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | B22F3/16 | 分类号: | B22F3/16;C22C1/05;C22C9/00;C22C32/00 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 张彬 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种颗粒增强铜-TiC高强度高导电点焊电极的制备方法,采用低固溶Cu-Al合金,其铝含量不大于0.50wt%,TiC粉末,粒度小于10mm,含量在占总质量的5.7wt%~19.22wt%,氧化剂按质量百分比占Cu-Al粉的2.5%~5%;余量为Cu;其制备工艺包括:氧化剂、TiC粉末和Cu-Al合金粉的混合;内氧化;冷(热)挤压(轧制)变形;其中氧化剂为工业Cu2O,烧结内氧化同步进行,烧结温为900~1000℃,内氧化时间2~6h;本发明工艺方法制备的弥散铜点焊电极不仅具有高耐磨、高强度、高导电性、高抗软化温度,而且具有内氧化时间短、成本低、效率高的优点。 | ||
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【主权项】:
一种颗粒增强铜‑TiC高强度高导电点焊电极的制备方法,其特征在于,其制备方法包括以下步骤:(1)分别称取粒度为‑200目的工业级Cu2O、粒度为‑200目的低固溶度Cu‑Al合金和粒度小于10μm的TiC粉末,其中,Cu2O作为氧化剂,其用量为Cu‑Al合金质量的2.5%~5%,TiC粉末的用量为氧化剂、Cu‑Al合金和TiC粉末三者总质量的5.7%~19.22%,所述的Cu‑Al合金中的铝含量不大于0.50wt%,将氧化剂、Cu‑Al合金和TiC粉末混合后置于球磨机内进行球磨,采用的转速为30rpm,球磨时间为12~16h;(2)将球磨好的混合粉末装入石墨模具内,在30MPa的条件下预压5min,取出备用;(3)将步骤(2)中装有混合粉末,并经过预压的模具整体置于真空热压烧结炉中,在烧结温度为900~1000℃、真空度为1.5×10‑2 MPa、压制压强为20~40MPa的条件下热压烧结1~2h,然后撤去压力烧结1~4h,所述的烧结与内氧化同步进行,获得完全内氧化的弥散铜,备用;(4)取步骤(3)制取的弥散铜加工为所需要的尺寸即得到产品。
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