[发明专利]钴掺杂铁钛酸铋多铁性薄膜材料及其制备方法无效
| 申请号： | 201210355381.6 | 申请日： | 2012-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN103664161A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 杨杰;刘哲;汤现武;尹利华;朱雪斌;戴建明;孙玉平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C04B35/453 | 分类号： | C04B35/453;C04B35/622 |
| 代理公司： | 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 | 代理人： | 任岗生;王挺 |
| 地址： | 230031*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种钴掺杂铁钛酸铋多铁性薄膜材料及其制备方法。材料为化学式Bi6Fe2-xCoxTi3O18的多铁性薄膜，薄膜的厚度≥400nm，其由致密排列的粒径为20～100nm的颗粒构成。方法为先依次分别将硝酸铋、硝酸铁、乙酸钴和正丁醇钛加入到乙酸和乙酰丙酮的混合溶液中至其完全溶解，再于室温下搅拌至少5h得到前驱体溶液，接着，先将前驱体溶液涂敷至基底上后加热得到其上覆有凝胶膜的基底，再将其上覆有凝胶膜的基底热解得到其上覆有薄膜的基底，之后，先多次重复涂敷、加热和热解的工艺后，将得到的其上覆有多层薄膜的基底退火，再将多层薄膜与基底分离，制得目标产物。它具有较优的剩余磁化强度和电极化强度，在自旋电子学和其它领域将会具有广泛的应用前景和巨大的潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 掺杂 铁钛酸铋多铁性 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种钴掺杂铁钛酸铋多铁性薄膜材料，由铋、铁、钴、钛和氧元素组成薄膜，其特征在于：所述薄膜为化学式为Bi6Fe2～xCoxTi3O18的多铁性薄膜，所述化学式Bi6Fe2‑xCoxTi3O18中的Bi为铋、Fe为铁、Co为钴、Ti为钛、O为氧、0＜x≤1；所述多铁性薄膜的厚度为≥400nm，其由致密排列的颗粒构成，所述颗粒的粒径为20～100nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院合肥物质科学研究院，未经中国科学院合肥物质科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210355381.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种植物乳杆菌、其细菌素以及培养与分离纯化方法
- 下一篇：一种管路卡件
