[发明专利]用于制造硅块的装置和方法有效
| 申请号： | 201210340060.9 | 申请日： | 2012-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102995128A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | B·弗雷登伯格;S·格吕茨纳;M·迪特里希;K·达德兹斯;A·克劳泽;B·格吕迪格-温德洛克;D·诺尔特;M·特莱姆帕;C·赖曼;J·弗里德里希 | 申请（专利权）人： | 太阳世界创新有限公司;弗朗霍夫应用科学研究促进协会 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00;C30B11/02;C30B28/06;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 德国萨*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于制造用于光伏应用的硅块（30）的装置（1），包括带有基壁（5）和至少一个侧壁（6）的用于接收硅熔体（3）的容器（3）、用于减少杂质从容器（2）的壁（5，6）中的至少一个扩散到硅熔体（3）中的装置，其中用于减少杂质扩散的装置包括用于至少部分覆盖容器（2）的壁（5，6）中的至少一个的至少一个覆盖元件（4）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造用于光伏应用的硅块（30）的装置（1），包括：a.用于接收硅熔体（3）的容器（2），所述容器（2）带有i.基壁（5）；和ii.至少一个侧壁（6），b.用于减少杂质从所述容器（2）的所述壁（5，6）中的至少一个扩散到所述硅熔体（3）和所述硅块（30）中的装置，c.其中，所述用于减少杂质扩散的装置包括至少一个覆盖元件（4；4a），以至少部分地覆盖所述容器（1）的所述壁（5，6）中的至少一个。
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