[发明专利]光刻用防尘薄膜组件以及其制造方法有效
申请号: | 201210333570.3 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN102998898A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 永田爱彦 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种防尘薄膜组件,对光掩模接着剂的成形形状进行调整,由此,该防尘薄膜组件在向光掩模贴附时,即使加压,光掩模接着剂4也不会向防尘薄膜组件的内侧膨出。本发明的防尘薄膜组件包括:防尘薄膜3、将防尘薄膜绷紧贴附的防尘薄膜组件框架1、防尘薄膜组件框架的一个端面上形成以便将防尘薄膜进行接着的接着剂2以及在与膜接着剂相反侧的一端面形成的光掩模接着用粘着剂4,所述光掩模接着用粘着剂4的截面形状为矩形为梯形,并且,所述侧壁面与框架面所成的角α为90°以下。 | ||
搜索关键词: | 光刻 防尘 薄膜 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光刻用防尘薄膜组件,包括防尘薄膜、将所述防尘薄膜绷紧设置的防尘薄膜组件框架、所述防尘薄膜组件框架的一个端面形成的防尘薄膜贴附用的接着剂层、与所述防尘薄膜贴附用接着剂层相反侧的端面形成的光掩模粘着剂层,其特征在于:所述光掩模粘着剂层的截面为矩形或梯形,上端具有平坦面,并且,所述光掩模粘着剂层的侧面与框架面所成的角为90°以下。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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