[发明专利]光掩模坯料、光掩模和制造方法

摘要

本发明涉及一种光掩模坯料、光掩模和制造方法。在包含透明衬底、含有过渡金属和硅的材料的光学膜、以及硬掩模膜的光掩模坯料中，硬掩模膜为多层膜，该多层膜包括含有20-60原子％氧的铬衬底料的第一层和含有至少50原子％铬和小于20原子％氧的铬衬底料的第二层。具有2.0nm至小于10nm厚度的硬掩模膜耐受氟干法蚀刻。

主权项

一种光掩模坯料，包含透明衬底、布置于该衬底上且由含有过渡金属和硅的材料构成的光学膜、以及用于精密加工光学膜的硬掩模膜，其中所述硬掩模膜为铬衬底料的多层膜，该多层膜包括邻接于光学膜布置的第一层和邻接于第一层设置的第二层，所述第一层由含有20‑60原子％氧的铬衬底料构成，且具有0.5nm至小于5.0nm的厚度，所述第二层由含有至少50原子％铬的铬衬底料构成，且其氧含量小于第一层，且所述硬掩模膜具有2.0nm至小于10nm的总厚度。