[发明专利]一种用于非平面基材的曝光方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201210284323.9 | 申请日： | 2012-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102799076A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;金曦;王旭伟 | 申请（专利权）人： | 深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518034 广东省深圳市福田*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于非平面基材的曝光方法，其包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分；使用立体曝光方法对非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。本发明还公开了一种用于非平面基材的曝光装置。本发明的用于非平面基材的曝光方法及曝光装置通过在非平面基材的每一部分表面覆盖感光抗蚀剂，再使用立体曝光方法进行曝光，能够适应于大尺寸的非平面基材。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 平面 基材 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于非平面基材的曝光方法，其特征在于，所述方法包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖所述非平面基材中非平面的至少一部分；使用立体曝光方法对所述非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。
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