[发明专利]GaN LED的快速退火在审

专利信息
申请号: 201210252428.6 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN102891225A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 王耘;A·M·霍利鲁克 申请(专利权)人: 超科技公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/32;H01L33/36
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 蒋世迅
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: GaN LED的快速退火。公开了在形成GaN发光二极管(LED)中进行快速热退火的方法以及用快速热退火层形成的GaN LED。示例性方法包含形成有当中夹入激活层的n-GaN层和p-GaN层的GaN多层结构。该方法包含用或者激光器或者闪光灯进行p-GaN层的快速热退火。该方法还包含在该GaN多层结构顶上形成透明导电层,并添加p-接触到透明导电层和n-接触到n-GaN层。得到的GaN LED有增强的输出功率、较低的导通电压和降低的串联电阻。
搜索关键词: gan led 快速 退火
【主权项】:
一种形成GaN发光二极管(LED)的方法,包括:在基底顶上形成有当中夹入激活层的n‑GaN层和p‑GaN层的GaN多层结构;进行该p‑GaN层的快速热退火;在该GaN多层结构顶上形成透明导电层;和添加p‑接触到该透明导电层和添加n‑接触到该n‑GaN层。
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