[发明专利]GaN基LED网孔电极的制作方法有效
申请号: | 201210174972.3 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN102709433A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 王家鑫;吴奎;曾一平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种GaN基LED网孔电极的制作方法,包括以下步骤:1)在GaN基外延片的表面蒸镀ITO膜;2)在ITO膜的表面排列一单层紧密排列的自组装球;3)加热,使自组装球与ITO膜结合牢固;4)采用ICP方法,刻蚀自组装球,经过刻蚀后,自组装球间距变大,球半径减小;5)再加热,使自组装球在ITO膜表面有稍微塌陷,把点接触变成面接触;6)在自组装球的表面、间隙里及ITO膜的表面蒸镀金属;7)采用甲苯超声方法,去除自组装球表面的金属,保留ITO膜表面金属;8)高温处理,使自组装球气化,使ITO膜表面的金属形成网孔状电极,完成网孔电极的制作。具有电极的接触电阻小、透过率高、出光效率高以及电流分布均匀的优点。 | ||
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【主权项】:
一种GaN基LED网孔电极的制作方法,包括以下步骤:1)在GaN基外延片的表面蒸镀ITO膜;2)在ITO膜的表面排列一单层紧密排列的自组装球;3)加热,使自组装球与ITO膜结合牢固;4)采用ICP方法,刻蚀自组装球,经过刻蚀后,自组装球间距变大,球半径减小;5)再加热,使自组装球在ITO膜表面有稍微塌陷,把点接触变成面接触;6)在自组装球的表面、间隙里及ITO膜的表面蒸镀金属;7)采用甲苯超声方法,去除自组装球表面的金属,保留ITO膜表面金属;8)高温处理,使自组装球气化,使ITO膜表面的金属形成网孔状电极,完成网孔电极的制作。
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