[发明专利]一种涂层导体用不锈钢基带的抛光工艺无效
| 申请号： | 201210165289.3 | 申请日： | 2012-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN102703937A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 索红莉;王营霞;马麟;王金华;李孟晓;孟易辰 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25D3/24 | 分类号： | C25D3/24;C23F3/04 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种涂层导体用不锈钢基带的抛光工艺，属于高温超导涂层导体的基带表面抛光技术领域。本发明主要提供了一种集酸洗、化学抛光与电化学抛光于一体的不锈钢抛光工艺。在该发明中，去除了传统抛光液中的有毒铬酸、氢氟酸成分和易挥发的盐酸溶液，减少了所用材料对环境的污染、对人体的危害以及对设备的腐蚀性，使用较为常见的磷酸、硫酸溶液，配以双氧水氧化剂、丁二酮肟络合剂和ZP-1型缓蚀剂，所配置的抛光液原料易得，成本较低，配置过程可操作性强，所配溶液可在常温下使用，降低设备损耗和节约电量，所以以优化的抛光工艺节约了生产成本，同时提高抛光光洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂层 导体 不锈钢 基带 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
一种涂层导体用不锈钢基带的抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：（1）对不锈钢进行酸洗除油，即预抛处理；在进行预抛处理前需要配置酸洗溶液；本发明中所采用酸洗溶液由磷酸、硫酸、丁二酮肟三部分组成；磷酸的密度为1.685 g/ cm‑3，添加量为300~420mL / L，硫酸的密度为1.84g /cm‑3，添加量为160~250mL / L，丁二酮肟为固体粉末，其添加量为10~15g / L，酸洗时间为5~10min；（2）对酸洗后的不锈钢材料进行水洗，干燥，然后进行化学抛光；将酸洗后的不锈钢材料进行水洗，然后进行干燥，等待进一步的化学抛光；在进行化学抛光之前需要先配置化学抛光液；化学抛光液的成分由磷酸、硫酸、双氧水、ZP‑1缓蚀剂组成；磷酸的密度为1.685 g/ cm‑3，添加量为200~320mL / L，硫酸的密度为1.84g /cm‑3，添加量为180~300mL / L，质量百分比浓度为30%的双氧水的添加量为50~100mL / L，ZP‑1缓蚀剂的添加量为10~30mL / L，抛光时间为5~10min；（3）最后对不锈钢材料进行电化学抛光处理；将化学抛光后的不锈钢材料进行水洗，然后进行干燥，等待进一步的电化学抛光；在进行电化学抛光之前需要先配置电化学抛光液；电化学抛光液的成分由磷酸、硫酸、双氧水、丁二酮肟和ZP‑1缓蚀剂组成；磷酸的密度为1.685 g/ cm‑3，添加量为250~420mL / L，硫酸的密度为1.84g /cm‑3，添加量为180~250mL / L，质量百分比浓度为30%的双氧水的添加量为150~300mL / L，丁二酮肟为粉末，其添加量为5~10g / L，ZP‑1缓蚀剂的添加量为10~20mL / L，抛光电压为10~15v，阴极材料为铅板，抛光时间为1~3min；（4）将电化学抛光好的材料进行水洗，然后烘干保存待用。
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