[发明专利]一种多晶硅薄膜制造设备及方法有效

专利信息
申请号: 201210163732.3 申请日: 2012-05-24
公开(公告)号: CN103422068A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 李如东 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
主分类号: C23C16/24 分类号: C23C16/24;C23C16/455
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种多晶硅薄膜制造设备,用于使得到的多晶硅薄膜的晶粒大小及膜厚分别一致,提高多晶硅薄膜质量。所述设备包括:通入所述内管的与所述内管中设置的晶舟数量相等的进气管,用于向所述内管通入反应气体,所述进气管中每根进气管上对应于所述内管中设置有晶舟的位置开有进气口,其中,每根进气管上的进气口的位置分别与一晶舟的位置相对应;数量与所述进气管数量相等的流量控制器,分别设置于所述进气管连接的气体管路中,用于控制每根进气管内的气体流量。本发明还公开了多晶硅薄膜制造方法。
搜索关键词: 一种 多晶 薄膜 制造 设备 方法
【主权项】:
一种多晶硅薄膜制造设备,包括炉管,所述炉管包括内管,所述内管中设置有用于放置用于淀积多晶硅薄膜晶片的晶舟,其特征在于,还包括:通入所述内管的与所述内管中设置的晶舟数量相等的进气管,用于向所述内管通入反应气体,所述进气管中每根进气管上对应于所述内管中设置有晶舟的位置开有进气口,其中,每根进气管上的进气口的位置分别与一晶舟的位置相对应;数量与所述进气管数量相等的流量控制器,分别设置于与所述进气管连接的气体管路中,用于控制每根进气管内的气体流量。
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