[发明专利]曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法有效
| 申请号： | 201210159451.0 | 申请日： | 2012-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN102944978A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 梅文辉;杜卫冲;曲鲁杰 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 | 代理人： | 毛威;肖鹂 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法。该曝光系统包括：第一光学引擎；第二光学引擎；光源系统，用于对该第一光学引擎和该第二光学引擎提供曝光光束；第一分束装置，设置在该第一侧，用于对经过该第一光学引擎的入射光束以及对经过该第二光学引擎的入射光束进行分光；第一视觉系统，设置在该第一侧，该第一视觉系统接收经过该第一光学引擎并由该第一分束装置反射的第一光束，以及接收经过该第二光学引擎并由该第一分束装置反射的第二光束，以用于校准该第一光学引擎和该第二光学引擎的光轴。本发明实施例的曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法，能够校准各光学引擎的光轴，从而能够提高曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 校准 光学 引擎 方法 制造 | ||
【主权项】：
一种双面无掩膜的曝光系统，其特征在于，包括：第一光学引擎，设置在基板的第一侧，用于生成第一曝光图案并将所述第一曝光图案投影到所述基板的第一面；第二光学引擎，设置在所述基板的第二侧，用于生成第二曝光图案并将所述第二曝光图案投影到所述基板的第二面；光源系统，用于对所述第一光学引擎和所述第二光学引擎提供曝光光束；第一分束装置，设置在所述第一侧，用于对经过所述第一光学引擎的入射光束以及对经过所述第二光学引擎的入射光束进行分光；第一视觉系统，设置在所述第一侧，所述第一视觉系统接收经过所述第一光学引擎并由所述第一分束装置反射的第一光束，以及接收经过所述第二光学引擎并由所述第一分束装置反射的第二光束，以用于校准所述第一光学引擎和所述第二光学引擎的光轴。
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