[发明专利]一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法有效

专利信息
申请号: 201210158714.6 申请日: 2012-05-22
公开(公告)号: CN102832174A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 俞柳江 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/8244 分类号: H01L21/8244;H01L21/265
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,其中,包括以下工艺,通过移除控制管的多晶硅预注入工艺,降低了控制管的多晶硅掺杂浓度,增大了控制管的等效电阻,提高了随机存储器读出冗余度。通过本发明一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,能够通过不再对控制管区域进行预注入,有效地使控制管多晶硅栅的掺杂浓度降低,从而增大了多晶硅栅的寄生电阻以及多晶硅栅耗尽现象,导致控制管的阈值电压增加,开启电流减小,同时增大了控制管的等效电阻,在读取过程中,降低了节点8的电位,从而提高了随机存储器的读出冗余度。
搜索关键词: 一种 提高 静态 随机 储存器 读出 冗余 方法
【主权项】:
一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:步骤一,在版图上生成NMOS多晶硅栅预注入光刻板,使得普通NMOS区域被打开,并使SRAM版图中控制管区域被覆盖,下拉管区域被打开;步骤二,在版图上生成PMOS多晶硅栅预注入光刻板,使得普通PMOS区域和SRAM版图中上拉管被打开;步骤三,利用NMOS多晶硅栅预注入光刻板进行多晶硅栅预注入工艺,对普通NMOS区域和SRAM版图中下拉管区域进行第五族元素的注入; 步骤四,利用PMOS多晶硅栅预注入光刻版进行多晶硅栅预注入工艺,对普通PMOS区域和SRAM版图中上拉管区域进行第三族元素的注入,以完成最后的注入工艺。
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