[发明专利]真空室的真空度控制机构、包括该机构的接合装置、真空室及接合装置的真空度控制方法无效
| 申请号： | 201210147508.5 | 申请日： | 2012-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102848695A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 和田周平 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | B32B37/10 | 分类号： | B32B37/10;B32B37/06;B32B41/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能以简易的结构提高真空压力控制精度的真空室的真空度控制机构、包括该真空室的真空度控制机构的接合装置、真空室的真空度控制方法、以及接合装置的真空度控制方法。用于控制真空室（D）的真空压力值的真空室的真空度控制机构包括：用于对真空室（D）抽真空的真空路径；将气体导入真空室（D）的流量调节阀（30）；以及对流量调节阀（30）的开闭率进行控制的控制部（32），控制部（32）根据真空室（D）的真空压力值对流量调节阀（30）的开闭率进行控制，将真空室（D）的真空压力值调整为目标真空压力值。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 控制 机构 包括 接合 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种真空室的真空度控制机构，所述真空室的真空度控制机构用于控制真空室的真空压力值，其特征在于，包括：用于对所述真空室抽真空的真空路径；将气体导入所述真空室的流量调节阀；以及对所述流量调节阀的开闭率进行控制的控制部，所述控制部根据所述真空室的真空压力值对所述流量调节阀的开闭率进行控制，将所述真空室的真空压力值调整为目标真空压力值。
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