[发明专利]一种多波前校正器件的解耦控制方法有效
| 申请号： | 201210124281.2 | 申请日： | 2012-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN102681165A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 刘文劲;宁禹;晏虎;董理治;雷翔;王帅;杨平;许冰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B26/06 | 分类号： | G02B26/06;G01J9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种多波前校正器件的解耦控制方法如下：(1)利用哈特曼波前传感器进行像差探测，并将哈特曼波前传感器所获像差斜率信息分解为低阶像差模式系数与高阶像差斜率信息两部分；(2)利用低阶像差模式系数作为中间控制参量，控制低阶像差波前校正器件工作；(3)利用高阶像差斜率信息控制高阶像差波前校正器件工作。本发明的解耦控制方法能够有效驱动多个波前校正器件同时进行像差校正，并能够抑制多个波前校正器件之间的耦合误差累积，最终实现对自适应光学系统行程量与校正精度的有效提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多波前 校正 器件 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种多波前校正器件的解耦控制方法，其特征在于：步骤S1：利用哈特曼波前传感器探测多波前校正器件的待校正像差，并对哈特曼波前传感器获得的像差斜率向量进行低阶模式重构，求解出待校正像差中的低阶模式系数向量；步骤S2：利用哈特曼波前传感器的子孔径斜率与Zernike模式系数的关系矩阵和低阶模式系数向量求解出待校正像差的低阶模式斜率向量，将哈特曼波前传感器获得的像差斜率向量与低阶模式斜率向量相减，求解出待校正像差的高阶模式斜率向量；步骤S3：利用待校正像差的低阶模式系数向量作为中间控制参量控制低阶像差波前校正器件工作；步骤S4：利用待校正像差的高阶模式斜率向量，使用直接斜率法计算拟加载至高阶像差波前校正器件的控制信号，并通过构建修复矩阵重置控制信号，控制高阶像差波前校正器件工作；步骤S5：依次重复执行步骤S1到步骤S4，直至控制结束。
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