[发明专利]一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜有效

专利信息
申请号: 201210107914.9 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102621822A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 罗先刚;赵泽宇;王彦钦;冯沁;王长涛;罗云飞;陶兴;黄成;杨磊磊;姚纳 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B3/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,该透镜包括:可以传输光的平面多层金属-介质膜、可以缩小成像的曲面多层膜、金属掩模结构、粘连剂层及基底。本发明所述透镜简单,可行性高,只需要常规的涂胶、光刻和工艺镀膜,就可以得到物面为曲面、像面为平面的缩小倍率超分辨成像透镜,所述透镜能够传输高频信息、分辨半波长以下图形,具有广阔的应用前景;同时,本发明所述透镜拓展了现有超分辨缩小成像技术的应用范围。
搜索关键词: 一种 实现 曲面 平面 分辨 缩小 成像 光刻 透镜
【主权项】:
一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜,其特征在于:该透镜从下至上依次包括以下组成部分:一可透光的平面多层膜结构,用于将曲面多层膜结构缩小所成的像,等比地投到平整的像面上;一可缩小成像的曲面多层膜结构,用于实现图形的缩小倍率超分辨成像;一金属掩膜结构,作为缩小成像光刻的掩模图形;一粘连剂层,用于将平面多层膜结构、曲面多层膜结构、金属掩模结构固定在基底材料上;一基底材料,用于附着和支撑该缩小倍率超分辨成像透镜结构。
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