[发明专利]一种使用铟和微针锥结构的热压缩芯片低温互连方法有效
申请号: | 201210085337.8 | 申请日: | 2012-03-28 |
公开(公告)号: | CN102543783A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 李明;胡安民;陈卓 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
地址: | 200240 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种使用铟和微针锥结构的热压缩芯片低温互连方法,包括芯片到基片,及芯片与芯片堆叠互连方法,在芯片焊盘制备表面覆盖有金属铟薄层的针锥阵列层,并将其与带有第二金属凸点的基片接触施压,随后加热至铟熔点之上保持一定时间,利用熔融的铟填充针锥与第二金属镶嵌的间隙,并与第二金属之间产生固液反应生成高熔点金属间化合物,从而消耗铟层来实现紧密键合,该方法通用性强,无需助焊剂,工艺流程简单,能明显降低现有倒装焊工艺温度。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 微针锥 结构 压缩 芯片 低温 互连 方法 | ||
【主权项】:
一种使用铟和微针锥结构的热压缩芯片低温互连方法,其特征在于,包括芯片到基片的粘接互连方法,或者芯片与芯片的叠层垂直互连方法,其步骤如下:1)、选择表面具有电互连焊盘金属块的第一芯片;2)、选择具有与第一芯片电互连焊盘区域相对应焊盘的基片或第二芯片;3)、在第一芯片焊盘区域制备镍微针锥层及铟层;4)、在基片或者第二芯片焊盘区域制备金属凸点,包括下层的第一金属柱和表面覆盖的第二金属帽;5)、接合第一芯片与基片,或者第一芯片与第二芯片,包括将第一芯片和基片表面对准,或者第一芯片和第二芯片表面对准,使得多个带有金属帽的凸点与芯片表面上各个微针锥区域匹配;以及把接触区域加热到一定的温度,并使两侧接触压缩以完成第一芯片到基片的焊盘区域电互连键合,或者第一芯片到第二芯片的叠层垂直互连。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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