[发明专利]足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法有效
| 申请号： | 201210069808.6 | 申请日： | 2012-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN103300546A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 吴昆英 | 申请（专利权）人： | 亚卡文投资有限公司 |
| 主分类号： | A43D1/02 | 分类号： | A43D1/02 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 英属维尔京群岛托拉托市*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本发明涉及一种足形测量方法以及根据足形选配鞋垫的方法，其足形测量方法包括如下步骤：S1.待测足平踏于测量板上，所述测量板上设有基线，待测足的后跟尖和第二跖骨的前端位于所述基线上；S2.采用电子摄像装置拍摄待测足的后跟照片；S3.在图像显示处理装置上定位所述后跟照片中的内足踝最突出点、外足踝最突出点和后跟中线；S4.计算待测足的外翻系数VI，所述外翻系数VI＝((LM×0.5-LH)/LM)×100，其中，LM为所述内足踝最突出点到后跟中线的距离和所述外足踝最突出点到后跟中线的距离之和，LH为所述外足踝最突出点到后跟中线的距离。通过外翻系数可以判断足外翻的程度，并根据足外翻的程度选配合适的鞋垫，可以提高足的舒适程度。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 以及 根据 选配 鞋垫 方法 | ||
【主权项】：
一种足形测量方法，其特征在于，包括如下步骤：S1待测足平踏于测量板上，所述测量板上设有基线，待测足踩在所述基线上，待测足的后跟尖和第二跖骨的前端位于所述基线上；S2采用电子摄像装置拍摄待测足的后跟照片；S3在图像显示处理装置上定位所述后跟照片中的内足踝最突出点、外足踝最突出点和后跟中线，所述后跟中线为与所述基线相交的竖直线；S4计算待测足的外翻系数VI，所述外翻系数VI＝((LM×0.5‑LH)/LM)×100，其中，LM为所述内足踝最突出点到后跟中线的距离和所述外足踝最突出点到后跟中线的距离之和，LH为所述外足踝最突出点到后跟中线的距离。
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