[发明专利]大功率密度的磁控溅射阴极无效
| 申请号： | 201210053887.1 | 申请日： | 2012-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN102560401A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 王正安;谭新;郑战伟;钱鹏亮;李杰;韩子水 | 申请（专利权）人： | 上海福宜新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种真空镀膜领域的磁控溅射阴极，具体说是一种大功率密度的磁控溅射阴极，包括阴极主体，以及与阴极主体连接的同轴电缆，还包括安装在阴极主体上部的靶材，以及位于阴极主体下方的磁路系统，其特征在于；还包括一个阳极罩，所述阴极主体上开设进水槽和出水槽，并与靶材之间设有防水板，进水槽与出水槽的下方分别形成进水口和出水口，阴极主体的下方还有绝缘体，绝缘体的下方通过底板固定于阳极罩内，所述的阳极罩上方设有气路板，以及用于引入冷却水的铜管。本发明同现有技术相比，改善磁控溅射阴极性能，增加磁控溅射阴极的功率密度和提高磁控溅射阴极的靶材利用率对于提高磁控溅射镀膜的效率，降低镀膜的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 大功率 密度 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
一种大功率密度的磁控溅射阴极，包括阴极主体，以及与阴极主体连接的同轴电缆，还包括安装在阴极主体上部的靶材，以及位于阴极主体下方的磁路系统，其特征在于；还包括一个阳极罩，所述阴极主体上开设进水槽和出水槽，并与靶材之间设有防水板，进水槽与出水槽的下方分别形成进水口和出水口，阴极主体的下方还设有绝缘体，并在绝缘体的下方通过底板固定于阳极罩内，所述的阳极罩上方设有气路板，以及用于引入冷却水的铜管。
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