[发明专利]焊球上应力减小的晶圆级芯片规模封装件有效
申请号: | 201210047058.2 | 申请日: | 2012-02-27 |
公开(公告)号: | CN102832187A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 陈玉芬;蔡侑伶;普翰屏;郭宏瑞;黄毓毅 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L23/31;G03F7/075;G03F7/004 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;房岭梅 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 结构包含位于半导体衬底上方的金属焊盘、具有位于该金属焊盘上方的部分的钝化层和位于该钝化层上方的第一聚酰亚胺层,其中该第一聚酰亚胺层具有第一厚度和第一杨氏模量。钝化后互连件(PPI)包括位于第一聚酰亚胺层上方的第一部分和延伸至钝化层和第一聚酰亚胺层内的第二部分。将PPI电连接至金属焊盘。第二聚酰亚胺层位于PPI上方。该第二聚酰亚胺层具有第二厚度和第二杨氏模量。厚度比和杨氏模量比中的至少一种大于1.0,其中厚度比是第一厚度与第二厚度的比值,以及杨氏模量比是第二杨氏模量与第一杨氏模量的比值。本发明还提供一种焊球上应力减小的晶圆级芯片规模封装件。 | ||
搜索关键词: | 焊球上 应力 减小 晶圆级 芯片 规模 封装 | ||
【主权项】:
一种结构,包括:半导体衬底;金属焊盘,位于所述半导体衬底的上方;钝化层,位于所述半导体衬底的上方,并包含位于所述金属焊盘上方的部分;第一聚酰亚胺层,位于所述钝化层上方,其中所述第一聚酰亚胺层具有第一厚度和第一杨氏模量;钝化后互连件(PPI),包括位于所述第一聚酰亚胺层上方的第一部分和延伸至所述第一聚酰亚胺层内并且被电连接至所述金属焊盘的第二部分;和第二聚酰亚胺层,位于所述PPI上方,其中所述第二聚酰亚胺层具有第二厚度和第二杨氏模量,并且其中厚度比和杨氏模量比中的至少一种大于1.0,所述厚度比等于所述第一厚度与所述第二厚度的比值,而所述杨氏模量比等于所述第二杨氏模量与所述第一杨氏模量的比值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210047058.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:挡土墙后土体压力的计算方法
- 下一篇:一种铜互联线的制作工艺