[发明专利]磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置

摘要

本发明提供一种能够切实且以高速进行掩模层的除去的磁记录介质的制造方法。本发明是一种具有磁分离了的磁记录图案(2a)的磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板(1)之上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成溶解层(3)的工序；在溶解层(3)之上形成掩模层(4)的工序；将溶解层(3)和掩模层(4)图案化成为与磁记录图案(2a)对应的形状的工序；将磁性层(2)的没有被掩模层(4)和溶解层(3)覆盖的地方部分性地改性或除去的工序；和利用药剂将溶解层(3)湿式溶解，与其上的掩模层(4)一同从磁性层(2)之上除去的工序，在形成溶解层(3)的工序中，通过在磁性层(2)之上涂布了将有机硅化合物溶解于有机溶剂中的涂液后，固化该涂液，从而形成溶解层(3)。

主权项

一种磁记录介质的制造方法，是具有磁分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，包括：在非磁性基板之上形成磁性层的工序；在所述磁性层之上形成溶解层的工序；在所述溶解层之上形成掩模层的工序；将所述溶解层和掩模层图案化成为与所述磁记录图案对应的形状的工序；将所述磁性层的没有被所述掩模层和溶解层覆盖的地方部分性地改性或除去的工序；和将所述溶解层利用药剂湿式溶解，与其上的掩模层一同从所述磁性层之上除去的工序，在形成所述溶解层的工序中，通过在所述磁性层之上涂布了将有机硅化合物溶解于有机溶剂中的涂液后，固化该涂液，从而形成所述溶解层。