[发明专利]一种测量镜面形补偿效果的方法有效
申请号: | 201210001423.6 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN103197500A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 李煜芝;李术新;孙刚 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F1/44;G03F7/20;G01B11/24 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种测量镜面形补偿效果的方法,应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统,掩模台贴附有长条镜,干涉仪光束通过长条镜反射,控制掩模台运动,该方法包括上载具有测试标记的掩模,测试标记包括若干子标记,子标记排成一列;掩模台干涉仪系统控制掩模台沿若干子标记的排列方向运动,通过掩模对准系统进行对准测量,分别获得若干子标记的对准位置,测试标记与掩模对准系统的对准标记相匹配;根据对准位置获得面形残差测量值,判断在排列方向上的长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。该测量方法步骤简单,快速准确,可避免曝光分析引入不必要误差项。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 镜面形 补偿 效果 方法 | ||
【主权项】:
一种测量镜面形补偿效果的方法,应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统,所述掩模台贴附有长条镜,所述掩模台干涉仪系统的干涉仪光束通过所述长条镜反射,控制所述掩模台的运动,其特征在于,该方法包括:上载具有测试标记的所述掩模,所述测试标记包括若干子标记,所述子标记排成一列;所述掩模台干涉仪系统控制所述掩模台沿所述若干子标记的排列方向运动,通过所述掩模对准系统进行对准测量,分别获得所述若干子标记的对准位置,所述测试标记与所述掩模对准系统的对准标记相匹配;根据所述对准位置获得面形残差测量值,判断在所述排列方向上的所述长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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