[发明专利]将基板镀覆的装置无效
| 申请号： | 201180066234.0 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN103403221A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯·卡斯帕里;艾摩利奇·蛮佛列·诺法克 | 申请（专利权）人： | 莱宝光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44;B05B13/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 德国阿*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种将一基材(20)的一表面(21)施覆的施覆装置(1)，具有：－一加工室，以在施覆程序时容纳该基材(20)；－一粒子源(4)，以产生施覆粒子(23)；及－一运送装置(10)，以在加工室(2)中运送基材(20)，该运送装置有多数运送滚子(11a)，该运送滚子固定在一组轴(11b)上，该轴以可转动的方式支承在轴承(11c)中，且沿进送方向(13)前后设置且对准朝向成互相平行；其中：该运送装置(10)的设计方式及设在加工室(2)中的方式使得该运送装置(10)或至少一个运送滚子(11a)、一轴(11b)或运送装置(10)的一轴承(11c)被该所要运送的基材(20)或二个要先后运送的基材遮蔽以防止受到施覆粒子(23)的从料子源(4)出来的粒子流喷到。此外还关于在一种装置(1)中将一基材(20)的一表面(21)施覆的施覆方法，该装置具有：一加工室，以在施覆程序时容纳该基材(20)；一粒子源(4)，以产生施覆粒子(23)；及一运送装置(10)，以在加工室(2)中运送基材(20)，该运送装置有多数运送滚子(11a)，该运送滚子固定在一组轴(11b)上，该轴以可转动的方式支承在轴承(11c)中，且沿进送方向(13)前后设置且对准朝向成互相平行；其中：该运送装置(10)或至少一个运送滚子(11a)、一轴(11b)或运送装置(10)的一轴承(11c)被该所要运送的基材(20)或二个要先后运送的基材遮蔽以防止受到施覆粒子(23)的从料子源(4)出来的粒子流喷到。 | ||
| 搜索关键词： | 将基板 镀覆 装置 | ||
【主权项】：
一种将一基材(20)的一表面(21)施覆的施覆装置(1)，具有：一加工室，以在施覆程序时容纳该基材(20)；一粒子源(4)，以产生施覆粒子(23)；及一运送装置(10)，以在加工室(2)中运送基材(20)，该运送装置有多数运送滚子(11a)，该运送滚子固定在一组轴(11b)上，该轴以可转动的方式支承在轴承(11c)中，且沿进送方向(13)前后设置且对准朝向成互相平行；其特征在：该运送装置(10)的设计方式及设在加工室(2)中的方式使得该运送装置(10)或至少一个运送滚子(11a)、一轴(11b)或运送装置(10)的一轴承(11c)被该所要运送的基材(20)或二个要先后运送的基材遮蔽以防止受到施覆粒子(23)的从料子源(4)出来的粒子流喷到。
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