[发明专利]采用等离子体聚合预处理对物件的金属涂覆

摘要

一种在基底上施加金属的方法，包含：a)在等离子体中处理以涂覆涂层，所述等离子体包含选自于不饱和单体和多达10个碳原子的烷烃类中的化合物，和b1)在所述基底的表面上生成聚合物，所述聚合物包含羧基和吸附的第二金属的离子，还原所述离子为第二金属，或替代地b2)在表面上生成聚合物，将所述基底的表面与至少一种第二金属的胶态金属颗粒的分散体接触，和c)在所述第二金属上沉积所述第一金属。优势包括可以涂覆对例如低pH或溶剂敏感的材料。包含玻璃、几乎不含有不可提取的氢原子的SiO2以及含有卤素原子的聚合材料的基底具有良好的涂覆附着力。

主权项

一种至少部分地在基底的表面上施加第一金属的方法，包含步骤：a)在等离子体中处理所述基底以涂覆涂层，所述等离子体包含选自于不饱和单体和多达10个碳原子的烷烃类中的至少一种化合物，实施步骤b1和b2之一，b1)在所述基底的表面上生成聚合物，所述聚合物包含羧基和至少一种第二金属的吸附离子，还原所述离子为第二金属，b2)在所述基底的表面上生成聚合物，所述聚合物包含羧基，将所述基底的表面与至少一种第二金属的胶态金属颗粒的至少一种分散体接触，其中所述颗粒具有5‑500nm范围的直径，c)在所述第二金属上沉积所述第一金属。