[发明专利]磁盘基板用研磨液组合物有效

专利信息
申请号: 201110411215.9 申请日: 2011-12-12
公开(公告)号: CN102533220A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 木村阳介;浜口刚吏;铃木诚 申请(专利权)人: 花王株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;G11B5/84;B24B37/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种磁盘基板用研磨液组合物及使用该组合物的磁盘基板的制造方法,所述磁盘基板用研磨液组合物可以在不损伤生产率的情况下减少残留无机粒子及划痕。所述磁盘基板用研磨液组合物含有无机粒子、二烯丙基胺聚合物、酸及水,其中,所述二烯丙基胺聚合物具有选自下述通式(i-a)、(i-b)、(i-c)及(i-d)所示的结构单元中的1种以上结构单元,研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008~0.100重量%。
搜索关键词: 磁盘 基板用 研磨 组合
【主权项】:
1.一种磁盘基板用研磨液组合物,含有无机粒子、二烯丙基胺聚合物、酸及水,其中,所述二烯丙基胺聚合物具有选自由下述通式(I-a)、(I-b)、(I-c)及(I-d)所示的结构单元构成的组中的1种以上的结构单元,研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008~0.100重量%,上述式(I-a)及(I-b)中,R1表示氢原子、可以具有羟基的碳原子数1~10的烷基或碳原子数7~10的芳烷基,上述式(I-c)及(I-d)中,R2表示可以具有羟基的碳原子数1~10的烷基或碳原子数7~10的芳烷基,R3表示碳原子数1~4的烷基或碳原子数7~10的芳烷基,D-表示一价的阴离子。
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