[发明专利]一种用于进气结构的匀气盘有效
| 申请号： | 201110388396.8 | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102437002A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 李楠;席峰;李勇滔;张庆钊;夏洋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子刻蚀、淀积设备技术领域，具体涉及一种应用于等离子刻蚀、淀积设备的进气结构中的匀气盘。所述用于进气结构的匀气盘上分布若干小孔，所述小孔从所述匀气盘的中心到边缘按照由密到疏、由疏到密或由密到疏再到密的方式分布。本发明有利于反应腔室内气流密度均匀一致，起到提高芯片表面气体的均匀性作用，使到达芯片表面的气体密度分布趋于一致。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 结构 匀气盘 | ||
【主权项】：
一种用于进气结构的匀气盘，其特征在于：所述匀气盘上分布若干小孔，所述小孔从所述匀气盘的中心到边缘按照由密到疏、由疏到密或由密到疏再到密的方式分布。
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