[发明专利]铈-锑共掺杂氧化锡薄膜、粉体及其制备方法有效
| 申请号： | 201110361537.7 | 申请日： | 2011-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN102516834A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 曾和平;张宝玉 | 申请（专利权）人： | 广州市泰祥建材实业发展有限公司;曾和平 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510405 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铈-锑共掺杂氧化锡薄膜及其制备方法，所述薄膜由氧化铈、氧化锑和氧化锡组成，其中，铈元素：锑元素：锡元素的物质的量之比为1~4：1~4：100。本发明还公开了一种铈-锑共掺杂氧化锡粉体及其制备方法，所述粉体由氧化铈、氧化锑和氧化锡组成，其中，铈元素：锑元素：锡元素的物质的量之比为1~4：1~4：100。本发明的铈-锑共掺杂氧化锡薄膜/粉体的制备方法简单、成本低廉、生产工艺简便、适合于各类企业生产；将制备得到的铈-锑共掺杂氧化锡薄膜镀在白玻璃基材上，得到的镀膜玻璃在300~380nm的屏蔽效率为60%以上，在380~780nm的透过率为85~92%（使用的白玻璃只有85%）。 | ||
| 搜索关键词： | 掺杂 氧化 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种铈‑锑共掺杂氧化锡薄膜，由氧化铈、氧化锑和氧化锡组成，其中，铈元素：锑元素：锡元素的物质的量之比为1~4：1~4：100。
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