[发明专利]正性光刻胶组成物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110360724.3 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN102402119A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 杨洪;赵晓芳;郭玲香;林保平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/00
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 汤志武
地址: 211189 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种可在碱性水溶液中显影的正性光刻胶组成物,该光刻胶组合物只包括a)光刻胶树脂b)光刻胶溶剂。该光刻胶树脂中含有邻硝基苄基结构,在紫外曝光时能发生化学变化,使得该光刻胶在显影液中的溶解度发生变化,即该光刻胶不用加入光致产酸剂、感光剂等额外添加剂就能够显影,得到具有较高分辨率的图像,满足其作为光致抗蚀剂的要求。
搜索关键词: 光刻 组成 及其 制备 方法
【主权项】:
一种可在碱性水溶液中显影的正性光刻胶组成物,该光刻胶包括:a)光刻胶树脂,b)光刻胶溶剂,所述的光刻胶溶剂为能溶解光刻胶树脂的有机溶剂,且按重量计,光刻胶树脂占光刻胶溶剂的5%~30%。
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