[发明专利]源、掩模和投影光学装置的优化

摘要

本发明涉及源、掩模和投影光学装置的优化。本发明的实施例提供了用于优化光刻投影设备的方法，所述方法包括优化其中的投影光学装置，且优选地包括优化源、掩模和投影光学装置。投影光学装置有时被广义地称为“透镜”，因此联合的优化过程可以用术语“源掩模透镜优化”表示。源掩模透镜优化相对于已有的源掩模优化过程是期望的，部分原因在于将投影光学装置包括在优化中可能通过引入投影光学装置的多个可调节的特性而导致更大的过程窗口。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形，使得能够对整个成像过程进行像差控制。根据此处的实施例，可以通过迭代地利用使用传递交叉系数的偏导数的泰勒级数展开或线性拟合算法加快所述优化。

主权项

一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：定义多个设计变量的多变量成本函数，所述设计变量是所述光刻过程的特性，所述设计变量中的至少一些设计变量是所述投影光学装置的特性；和通过调整所述设计变量重新配置所述光刻过程的特性，直到预定的终止条件被满足为止。