[发明专利]一种石墨烯纳米图案的加工方法无效
| 申请号： | 201110321806.7 | 申请日： | 2011-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102358614A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 张广宇;时东霞;史志文;张连昌;杨蓉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种石墨烯纳米图案的加工方法，包括：在石墨烯上形成人工缺陷；用含氢等离子体对该石墨烯进行各向异性刻蚀。本发明提供的方法能够可控地加工出纳米级的石墨烯结构，精度可达到十纳米以下，且能够得到具有原子级平整的zigzag边缘结构的石墨烯纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 纳米 图案 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种石墨烯纳米图案的加工方法，包括：在石墨烯上形成人工缺陷；用含氢等离子体对该石墨烯进行各向异性刻蚀。
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