[发明专利]晶须集合体的制造方法有效
申请号: | 201110321142.4 | 申请日: | 2011-10-12 |
公开(公告)号: | CN102456772A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 竹内敏彦;石川信;村上由季 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孔青;林毅斌 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种晶须集合体的制造方法,该晶须集合体的制造方法可以在未成膜种原子层的衬底上直接使不含有种原子的晶须集合体生长。在被形成衬底的对面配置种衬底,并且导入含有硅的气体进行减压化学气相淀积。被形成衬底的种类只要是能够承受进行减压化学气相淀积时的温度的衬底,没有特别的限制。可以使不含有种原子的硅晶须集合体接触于被形成衬底上而直接生长。再者,通过利用所形成的晶须集合体的表面形状特性,可以将形成有晶须集合体的衬底应用于太阳电池或锂离子二次电池等。 | ||
搜索关键词: | 集合体 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造方法,包括如下步骤:在第一衬底的表面上提供种原子层;配置所述第一衬底和绝缘衬底来使所述第一衬底的所述表面与所述绝缘衬底的表面平行;以及导入含有硅的气体并进行化学气相淀积来使晶须集合体生长。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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