[发明专利]晶须集合体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110321142.4 申请日: 2011-10-12
公开(公告)号: CN102456772A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 竹内敏彦;石川信;村上由季 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孔青;林毅斌
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供一种晶须集合体的制造方法,该晶须集合体的制造方法可以在未成膜种原子层的衬底上直接使不含有种原子的晶须集合体生长。在被形成衬底的对面配置种衬底,并且导入含有硅的气体进行减压化学气相淀积。被形成衬底的种类只要是能够承受进行减压化学气相淀积时的温度的衬底,没有特别的限制。可以使不含有种原子的硅晶须集合体接触于被形成衬底上而直接生长。再者,通过利用所形成的晶须集合体的表面形状特性,可以将形成有晶须集合体的衬底应用于太阳电池或锂离子二次电池等。
搜索关键词: 集合体 制造 方法
【主权项】:
一种制造方法,包括如下步骤:在第一衬底的表面上提供种原子层;配置所述第一衬底和绝缘衬底来使所述第一衬底的所述表面与所述绝缘衬底的表面平行;以及导入含有硅的气体并进行化学气相淀积来使晶须集合体生长。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110321142.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top