[发明专利]平面磁控溅射阴极无效
| 申请号： | 201110309710.9 | 申请日： | 2011-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN103046009A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 黄登聪;彭立全 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种平面磁控溅射阴极，其包括靶材、磁体装置、磁靴，所述磁体装置装设于靶材的背面，所述磁体装置包括平行且间隔设置的三第一磁体，该三第一磁体分别设置于靶材的两侧和中间，该磁体装置还包括四第二磁体，该四第二磁体为两两一组设置于相邻的二第一磁体之间；且该磁体装置中相邻的第一磁体与第二磁体的极性排布相反，相邻的二第二磁体的极性排布相反。本发明平面磁控溅射阴极能够使靶材表面的磁场强度分布更加均匀，使得靶材表面的蚀刻区大大宽化，从而有效提高了靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
一种平面磁控溅射阴极，其包括靶材、磁体装置、磁靴，所述磁体装置装设于靶材的相对于溅射表面的一面，所述磁靴设置于磁体装置远离所述靶材的一面，所述磁体装置包括平行且等间隔设置的三第一磁体，该三第一磁体分别设置于靶材的两侧和中间，且相邻的二第一磁体的极性排布相反，其特征在于：该磁体装置还包括四第二磁体，该四第二磁体为两两一组设置于相邻的二第一磁体之间，且每一第二磁体均与所述第一磁体平行；且该磁体装置中相邻的第一磁体与第二磁体的极性排布相反，相邻的二第二磁体的极性排布相反。
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