[发明专利]萘主链聚合物及含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法有效
| 申请号： | 201110306447.8 | 申请日： | 2007-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102432841A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 尹敬皓;金钟涉;鱼东善;吴昌一;邢敬熙;金旼秀;李镇国 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | C08G61/02 | 分类号： | C08G61/02;G03F7/09;G03F7/11;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了萘主链聚合物和含有该萘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式B表示的萘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本发明的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 萘主链 聚合物 含有 反射 模组 以及 材料 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种萘主链聚合物，该聚合物由式B表示：![]()
其中：萘基为未取代的或取代的，m为至少1且小于750，n为至少1且小于750，R1为亚甲基或包括含非萘芳基的连接基团，R2为氧或具有1至7个碳的烷氧基，其中烷氧基的氧与氢H或基团G结合，且G为乙烯基或烯丙基。
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