[发明专利]一种非金属真空腔室结构有效
| 申请号： | 201110287953.7 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN102290313A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 席峰;李勇滔;李楠;张庆钊;夏洋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非金属真空腔室结构，属于等离子体技术领域。所述非金属真空腔室结构包括进气口、上盖板、腔室筒体、射频线圈、下盖板和排气口；进气口设置于上盖板的中心处，排气口设置于下盖板的中心处，上盖板、下盖板与腔室筒体密封连接，射频线圈设置于腔室筒体的两侧。本发明的非金属真空腔室由非金属材料制成，结构简单，密封性好，易于安装，维护方便，提高了真空腔室的真空抽速和工艺条件的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 非金属 空腔 结构 | ||
【主权项】：
一种非金属真空腔室结构，其特征在于，包括进气口、上盖板、腔室筒体、射频线圈、下盖板和排气口；所述进气口设置于所述上盖板的中心处，所述排气口设置于所述下盖板的中心处，所述上盖板、下盖板与腔室筒体密封连接，所述射频线圈设置于所述腔室筒体的两侧。
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