[发明专利]一种去光阻的方法和设备无效
| 申请号： | 201110274328.9 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102331689A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 蔡郢倢;马擎天;刘秉承 | 申请（专利权）人： | 协鑫光电科技（张家港）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 215600 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种去光阻的方法和设备，用以解决现有去光阻过程浸泡步骤较多、所需原料较多，使得去光阻速度较慢、成本较高的问题。该方法包括：将带有光阻的基底置入去光阻液中浸泡；从所述去光阻液中取出所述基底；将所述基底的温度冷却至预设温度，其中，所述预设温度低于所述去光阻液遇水后与所述基底发生反应的最低温度；用水清洗所述基底。上述技术方案减少了浸泡步骤，减少了使用的原料，从而加快了去光阻的速度，缩短了制程时间，降低了去光阻成本和基底处理成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去光阻 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种去光阻的方法，其特征在于，包括：将带有光阻的基底置入去光阻液中浸泡；从所述去光阻液中取出所述基底；将所述基底的温度冷却至预设温度，其中，所述预设温度低于所述去光阻液遇水后与所述基底发生反应的最低温度；用水清洗所述基底。
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