[发明专利]电弧离子镀膜装置无效
| 申请号： | 201110271057.1 | 申请日： | 2011-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102994960A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;黄登聪;彭立全 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种电弧离子镀膜装置，其包括一反应室及可拆卸地设置于反应室中央的多个靶材和多个分隔板；该多个分隔板为相交设置，每一分隔板包括一侧面，该多个分隔板的所述侧面邻接设置；所述每一靶材位于相邻的二分隔板所围成的区域内。本发明电弧离子镀膜装置的设计节省了反应室的配置空间，可实现在大面积的基材上镀膜，更能克服一般电弧离子镀膜装置的沉积速度低和频繁更换靶材的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 电弧 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种电弧离子镀膜装置，其包括一反应室，其特征在于：该电弧离子镀膜装置还包括可拆卸地设置于反应室中央的多个靶材和多个分隔板；该多个分隔板为相交设置，每一分隔板包括一侧面，该多个分隔板的所述侧面邻接设置；所述每一靶材位于相邻的二分隔板所围成的区域内。
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