[发明专利]使用炉管进行工艺加工的方法无效

专利信息
申请号: 201110257722.1 申请日: 2011-09-02
公开(公告)号: CN102969220A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 李琳松;孙勤 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种使用炉管进行工艺加工的方法,首先于主反应步骤设定依次递增的温度,确保晶舟的各个位置硅片的成膜膜厚均匀一致;其次还可以新增补偿反应步骤,所述补偿反应采用的气体只是主反应中的保护性气体;所述补偿反应设定与主反应相反方向的依次递增的温度;所述补偿反应的时间与主反应相同;从而补足晶舟的各位个置的热效应差异,同时确保成膜均匀性一致。
搜索关键词: 使用 炉管 进行 工艺 加工 方法
【主权项】:
一种使用炉管进行工艺加工的方法,所述炉管指炉体设备的工艺腔,由内到外依次包括晶舟、内管、外管、加热设备,其特征是,包括如下步骤:第1步,硅片传输系统在晶舟上放置硅片;第2步,硅片传输系统让晶舟进入内管;第3步,提升内管内的温度,和/或将内管内抽成真空;第4步,进行主要反应,设定内管内的温度由上到下或由下到上依次递增,递增方向与内管内的反应气体浓度降低的方向相同;第5步,降低内管内的温度,和/或破除内管内的真空环境;第6步,硅片传输系统让晶舟移出内管;第7步,硅片传输系统将硅片从晶舟上取出。
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