[发明专利]套刻精度检测图形及其使用方法有效
| 申请号： | 201110257277.9 | 申请日： | 2011-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102969300A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪;王剑;戴韫青 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种套刻精度检测图形及其使用方法，用于设置在当前层的光刻图形中，所述套刻精度检测图形是由多个孔排列而成的外轮廓呈框形的图形，其包括至少一个第一区域和一个第二区域，所述第一区域的空间周期小于第二区域的空间周期，所述孔的尺寸等于当前层的光刻图形的特征尺寸。由于本发明采用套刻精度检测图形内嵌特征尺寸图形，本发明的优点是减少了芯片生产中特征尺寸和套刻精度检测图形所占用的面积，避免了特征尺寸检测图形受电子辐照损伤而影响特征尺寸检测的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 精度 检测 图形 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种套刻精度检测图形，用于设置在当前层的光刻图形中，其特征在于：所述套刻精度检测图形是由多个孔排列而成的外轮廓呈框形的图形，其包括至少一个第一区域和一个第二区域，所述第一区域的空间周期小于第二区域的空间周期，所述孔的尺寸等于当前层的光刻图形的特征尺寸。
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