[发明专利]斑纹减少装置和斑纹减少掩模有效

专利信息
申请号: 201110054854.4 申请日: 2011-03-07
公开(公告)号: CN102193208A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 仝召民;高文宏;陈旭远;穆罕默德·纳迪姆·阿克拉姆;欧阳光敏;王开鹰 申请(专利权)人: 西福尔德高等学院
主分类号: G02B27/48 分类号: G02B27/48;G03F1/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杜诚;李春晖
地址: 挪威滕*** 国省代码: 挪威;NO
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摘要: 公开了一种斑纹减少装置和斑纹减少掩模。斑纹减少装置(1)包括:辐射路径;以及布置在辐射路径内的掩模(7),掩模(7)包括被配置成在掩模上形成随时间变化的图案的电可控单元的阵列。斑纹减少掩模(7)包括:第一线性阵列,其包括被布置成改变入射辐射的相位的第一平行线;以及包括第二平行线的第二线性阵列,第二平行线被布置成改变入射辐射的相位并且还被布置成使得在第一平行线和第二平行线的相交处形成单元。斑纹减少掩模(7)包括:根据公式ATA=βδk,l形成的N1×N2单元阵列A,其中,AT是A的转置,β是正实常数,δk,l是克罗内克符号,N1≠N2。
搜索关键词: 斑纹 减少 装置
【主权项】:
一种斑纹减少装置,包括:辐射路径;以及布置在所述辐射路径内的掩模,所述掩模包括被配置成在所述掩模上形成随时间变化的图案的电可控单元的阵列。
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  • 2018-12-24 - 2019-04-12 - G02B27/48
  • 本发明涉及一种采用轴棱锥相位分布和方位角随机调制产生无衍射散斑的方法及其实现装置,包括步骤如下:(1)生成包含轴棱锥相位分布和方位角随机调制的合成膜片相位分布;将合成膜片相位分布生成产生无衍射散斑的与合成膜片相位分布相对应的二元全息图;(2)将合成膜片相位分布或与合成膜片相位分布相对应的二元全息图作为输入信号,直接编码写入空间光调制器;(3)用准直激光束照射空间光调制器,得到无衍射散斑。本发明提高了产生无衍射散斑的灵活性和可行性,很大程度上简化了系统结构,提高了光能利用率。
  • 惯性约束聚变装置中基于光束动态干涉图样的快速光束匀滑方法-201910034861.4
  • 钟哲强;张彬;孙年春 - 四川大学
  • 2019-01-15 - 2019-04-05 - G02B27/48
  • 本发明涉及一种惯性约束聚变装置中基于光束动态干涉图样的快速光束匀滑方法。该方法是在激光驱动惯性约束聚变装置激光集束中,将集束分为两两组合的子光束对,每一子光束对均经过相同的连续相位板和偏振控制板,但其工作波长不同且分别插入一对共轭或互补位相板,通过每一对子光束间在远场的动态干涉图样来实现对激光光束远场焦斑的快速匀滑,从而在较短的积分时间内提高焦斑的均匀性。
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